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PVD技術磁控濺射技術電子束蒸發DLCHIPIMSPACVDCVD

高能脈沖磁控濺射(HiPIMS)
技術特點:

高能脈沖磁控濺射技術是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術。將高能沖擊磁控濺射與高壓脈沖偏壓技術復合,利用其高離化率和淹沒性的特點,通過成膜過程中入射粒子能量與分布的有效操控,實現高膜基結合力、高品質、高均勻性薄膜的制備。該裝備系統將在衛星通訊、等離子物理、新材料等領域具有重要的工業應用價值。

High energy pulsed magnetron sputtering (hipims)

Technical features:

High energy pulsed magnetron sputtering is a kind of magnetron sputtering technology which uses high peak power and low duty cycle to produce high metal ionization rate. High energy impact magnetron sputtering and high-voltage pulse bias technology are combined to make use of the characteristics of high ionization rate and submergence. Through the effective control of the energy and distribution of incident particles in the film forming process, high film substrate adhesion, high quality and high uniformity films are prepared. The equipment system will have important industrial application value in satellite communication, plasma physics, new materials and other fields.

領域:
工模具高溫涂層:汽車、航空航天、軍事等先進制造行業應用
稀土鋁耐蝕薄膜:NdFeB磁鐵行業環保涂層應用
太陽能薄膜:光伏發電及新能源領域應用
生物工程薄膜:生物醫用領域應用

Field:

High temperature coating for tools and dies: application in advanced manufacturing industries such as automobile, aerospace, military, etc

Rare earth aluminum corrosion resistant film: application of environmental protection coating in NdFeB magnet industry

Solar film: application in photovoltaic power generation and new energy field

Bioengineering films: biomedical applications

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