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PVD技術磁控濺射技術電子束蒸發DLCHIPIMSPACVDCVD

PACVD 又叫 PECVD (離子強化氣相沉積)

PACVD 離子加強化學氣相沉積是在高度真空環境,溫度低于 200 ℃的情況下,沉積極度光滑,粘著性能好的無定形金剛石硬質合金涂層。相對 PVD 工藝, PaCVD 工藝應用深鍍電源,無需陰極靶材,同時工件在爐膛中無需旋轉,該工藝為干凈無污染,可靠,和多性能的涂層工藝。

PACVD is also called PECVD (ion enhanced vapor deposition)

PACVD ion enhanced chemical vapor deposition (ICVD) is a kind of amorphous diamond cemented carbide coating with extremely smooth and good adhesion under the condition of high vacuum and temperature below 200 ℃. Compared with PVD process, PACVD process uses deep plating power supply, without cathode target and workpiece rotation in furnace. This process is clean, pollution-free, reliable and multi-performance coating process.

 

PACVD 離子加強化學氣相沉積是在高度真空環境,溫度低于 200 ℃的情況下,沉積極度光滑,粘著性能好的無定形金剛石硬質合金涂層。

PACVD ion enhanced chemical vapor deposition (ICVD) is a kind of amorphous diamond cemented carbide coating with extremely smooth and good adhesion under the condition of high vacuum and temperature below 200 ℃.

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